Medusa – Alternative zum E-Beamresist HSQ mit verbesserten Eigenschaften

Der Anblick der griechischen Göttin Medusa ließ jeden zu Stein erstarren. Ähnliches kann der E-Beamresist Medusa. Durch Elektronenbestrahlung des Medusa-Polymers Silsesquioxane entstehen Strukturen aus SiO₂ (Sandstein). 

Der herkömmliche HSQ-Resist verfügt über eine exzellente Auflösung und Ätzstabilität. Diese Eigenschaften werden jedoch mit einer geringen Empfindlichkeit und Prozessinstabilität erkauft. Außerdem muss der HSQ für reproduzierbare Ergebnisse schnell verarbeitet werden. Der Allresist GmbH ist es gelungen, eine Alternative zum HSQ zu entwickeln. Durch eine neue Modifikation des Polymers lässt sich der Resist Medusa sehr einfach handhaben. Jetzt können zwischen Beschichtung, Bestrahlung und Entwicklung jeweils einige Tage liegen, ohne dass die Qualität leidet. Ansonsten entsprechen Empfindlichkeit, Ätzverhalten und Auflösung dem HSQ.

In einer weiteren Variante gelang sogar eine Empfindlichkeitssteigerung um den Faktor 20. Durch Zusatz eines Photosäuregenerators werden für eine vollständige Vernetzung nur noch 60 µC/cm² benötigt. Besonders ätzstabile Masken können damit 20-mal schneller geschrieben werden.

Die Firma Allresist informiert Interessierte über das Produkt und die Ergebnisse des Forschungsprojektes vom 24.-27. Semptember 2018 auf der MNE in Kopenhagen.

Kontakt: Dr. Tobias Mai, ALLRESIST GmbH
info@allresist.de