IVAM Microtechnology Network
Standnummer B20
SENTECH bietet seit über dreißig Jahren Systeme der Plasmaprozesstechnologie (Reaktives Ionenätzen, Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung, Atomlagenabscheidung) und Dünnschichtmesstechnik (Ellipsometrie, Reflektometrie) an. Im Fokus haben wir Qualität, Flexibilität und Automatisierbarkeit der Anlagen. Anwendungen sind das Ätzen von Mikro- und Nanostrukturen sowie Herstellen und Messen von dünnen Schichten. Unsere Anwender sind namenhafte Forschungsinstitute, die Halbleiterindustrie, Optik, MEMS, Sensorik u.a.SENTECH vertreibt Anlagen zur Plasma-Prozess-Technologie (Ätz-/Beschichtungsanlagen, ALD, ALE) und Messgeräte zur optischen Dünnschichtmesstechnik (Ellipsometer und Reflektometer).
Plasma-Prozess-Technologie:ICP Ätzanlage für schädigungsarmes Ätzen, RIE Ätzanlage, ICPECVD Anlage für schädigungsarmes Beschichten, ALD und ALE Anlagen. Alle Anlagen können in einen Cluster integriert werden.
Optische Dünnschichtmesstechnik:SENresearch 4.0 mit breitem Spektralbereich von 190 – 3.500 nm, SENDIRA MIR spektroskopisches Ellipsometer, SENDURO MEMS eine automatisierte Messplattform, Laser Ellipsometer u.a.
Auftragsmessungen, Auftragsbeschichtungen, Auftragsätzungen
